აღწერა
MOCVD სუბსტრატის გამაცხელებელი, გათბობის ელემენტები MOCVD-სთვის
გრაფიტის გამათბობელი:
გრაფიტის გამაცხელებელი კომპონენტები გამოიყენება მაღალი ტემპერატურის ღუმელში, რომლის ტემპერატურა მიაღწია 2200 გრადუსს ვაკუუმურ გარემოში და 3000 გრადუსს დეოქსიდირებული და ჩასმული გაზის გარემოში.
გრაფიტის გამათბობლის ძირითადი მახასიათებლები
1. გათბობის სტრუქტურის ერთგვაროვნება.
2. კარგი ელექტროგამტარობა და მაღალი ელექტრული დატვირთვა.
3. კოროზიის წინააღმდეგობა.
4. inoxidizability.
5. მაღალი ქიმიური სისუფთავე.
6. მაღალი მექანიკური სიმტკიცე.
უპირატესობა არის ენერგოეფექტური, მაღალი ღირებულება და დაბალი შენარჩუნება.
ჩვენ შეგვიძლია ვაწარმოოთ ანტიოქსიდანტური და გრძელვადიანი გრაფიტის ჭურჭელი, გრაფიტის ყალიბი და გრაფიტის გამათბობლის ყველა ნაწილი.
ქიმიური გრაფიტი
უპირატესობა: მაღალი ტემპერატურის წინააღმდეგობა
აპლიკაცია:MOCVD/ვაკუუმური ღუმელი/ცხელი ზონა
სიმკვრივე:1,68-1,91გ/სმ3
მოქნილობის სიძლიერე: 30-46Mpa
წინაღობა: 7-12μΩm
გრაფიტის გამათბობლის ძირითადი პარამეტრები
| ტექნიკური სპეციფიკაცია | VET-M3 |
| სიმჭიდროვე (გ/სმ3) | ≥1.85 |
| ნაცრის შემცველობა (PPM) | ≤500 |
| ნაპირის სიმტკიცე | ≥45 |
| სპეციფიკური წინააღმდეგობა (μ.Ω.მ) | ≤12 |
| მოქნილობის სიძლიერე (Mpa) | ≥40 |
| კომპრესიული სიძლიერე (Mpa) | ≥70 |
| მაქს. მარცვლის ზომა (μm) | ≤43 |
| თერმული გაფართოების კოეფიციენტი Mm/°C | ≤4.4*10-6 |
ელექტრო ღუმელისთვის გრაფიტის გამათბობელს აქვს სითბოს წინააღმდეგობის, ჟანგვის წინააღმდეგობის, კარგი ელექტროგამტარობის და უკეთესი მექანიკური ინტენსივობის თვისებები. ჩვენ შეგვიძლია დავამუშაოთ სხვადასხვა ტიპის გრაფიტის გამათბობელი მომხმარებლის დიზაინის მიხედვით.
კომპანიის პროფილი
WeiTai Energy Technology Co., Ltd. არის მოწინავე ნახევარგამტარული კერამიკის წამყვანი მიმწოდებელი და ერთადერთი მწარმოებელი ჩინეთში, რომელსაც შეუძლია ერთდროულად უზრუნველყოს მაღალი სისუფთავის სილიციუმის კარბიდის კერამიკა (განსაკუთრებით Recrystallized SiC) და CVD SiC საფარი. გარდა ამისა, ჩვენი კომპანია ასევე ერთგულია კერამიკული ველების მიმართ, როგორიცაა ალუმინა, ალუმინის ნიტრიდი, ცირკონია და სილიციუმის ნიტრიდი და ა.შ.
ჩვენი ძირითადი პროდუქტები, მათ შორისაა: სილიციუმის კარბიდის ამოსაჭრელი დისკი, სილიციუმის კარბიდის ნავის ბუქსირი, სილიციუმის კარბიდის ვაფლის ნავი (ფოტოელექტრული და ნახევარგამტარი), სილიციუმის კარბიდის ღუმელის მილი, სილიციუმის კარბიდის კონსოლი, სილიციუმის კარბიდის ჩამკეტები, სილიციუმის კარბიდის სხივი და ასევე, სილიციუმის კარბიდის სხივი და VD, ასევე, საფარი. პროდუქტები ძირითადად გამოიყენება ნახევარგამტარულ და ფოტოელექტრო მრეწველობაში, როგორიცაა მოწყობილობები კრისტალების ზრდისთვის, ეპიტაქსია, გრავირება, შეფუთვა, საფარი და დიფუზიური ღუმელები და ა.შ.
ჩვენს კომპანიას აქვს სრული საწარმოო აღჭურვილობა, როგორიცაა ჩამოსხმა, აგლომერაცია, გადამამუშავებელი, საფარის აღჭურვილობა და ა.შ., რომელსაც შეუძლია შეავსოს პროდუქტის წარმოების ყველა საჭირო რგოლი და ჰქონდეს პროდუქტის ხარისხის უფრო მაღალი კონტროლი; ოპტიმალური წარმოების გეგმა შეიძლება შეირჩეს პროდუქტის საჭიროებების მიხედვით, რაც გამოიწვევს დაბალ ღირებულებას და უზრუნველყოფს მომხმარებელს უფრო კონკურენტუნარიანი პროდუქციით; ჩვენ შეგვიძლია მოქნილად და ეფექტურად დავგეგმოთ წარმოება შეკვეთის მიწოდების მოთხოვნების საფუძველზე და ონლაინ შეკვეთების მართვის სისტემებთან ერთად, რაც მომხმარებელს მივაწოდოთ უფრო სწრაფი და გარანტირებული მიწოდების დრო.
-
მაღალი ტემპერატურის რეზისტენტული გრაფიტის ხისტი თექა
-
SiC საფარი სილიკონის ეპიტაქსიალური დეპონირება ბარში...
-
ცირკონიის ნახევარგამტარული კერამიკული ჩანგალი
-
ZrO2 ჭურჭელი
-
მაღალი სისუფთავის სილიკონის კარბიდის კრისტალური ნავის გადასატანი...
-
ხანგრძლივი მომსახურების ვადა SiC დაფარული გრაფიტის მატარებელი F...