ტონერის წარმოებაში გამოყენებული ნედლეული ჩვეულებრივ მოიცავს ფანტელ გრაფიტს, ნავთობის კოქსს და მიკროკრისტალური ქვის მელანს.რაც უფრო მაღალია გრაფიტის სისუფთავე, მით უფრო მაღალია გამოყენების ღირებულება.გრაფიტის გაწმენდის მეთოდები შეიძლება დაიყოს ფიზიკურ მეთოდებად და ქიმიურ მეთოდებად.ფიზიკური გამწმენდი მეთოდები მოიცავს ფლოტაციას და მაღალ ტემპერატურაზე გაწმენდას, ხოლო ქიმიური გამწმენდის მეთოდებს მიეკუთვნება მჟავა-ტუტოვანი მეთოდი, ჰიდროფთორმჟავას მეთოდი და ქლორიდით გამოწვის მეთოდი.
მათ შორის, მაღალი ტემპერატურის გაწმენდის მეთოდს შეუძლია გამოიყენოს გრაფიტის მაღალი დნობის წერტილი (3773K) და დუღილის წერტილი 4N5 და უფრო მაღალი სისუფთავის მისაღწევად, რაც გულისხმობს მინარევების აორთქლებას და გამოყოფას დაბალი დუღილის წერტილით, რათა მიაღწიოს მიზანს. განწმენდა [6].მაღალი სისუფთავის ტონერის ძირითადი ტექნოლოგია არის კვალი მინარევების მოცილება.ქიმიური გაწმენდისა და მაღალი ტემპერატურის გაწმენდის მახასიათებლებთან ერთად, მიღებულია უნიკალური სეგმენტირებული კომპოზიციური მაღალი ტემპერატურის თერმოქიმიური გაწმენდის პროცესი, რათა მიაღწიოს მაღალი სისუფთავის ტონერის მასალების გაწმენდას და პროდუქტის სისუფთავე შეიძლება იყოს 6N-ზე მეტი.
პროდუქტის შესრულება და მახასიათებლები:
1, პროდუქტის სისუფთავე≥99.9999% (6N);
2, მაღალი სისუფთავის ნახშირბადის ფხვნილის სტაბილურობა, გრაფიტიზაციის მაღალი ხარისხი, ნაკლები მინარევები;
3, მარცვლოვნება და ტიპი შეიძლება მორგებული იყოს მომხმარებლების მიხედვით.
პროდუქტის ძირითადი გამოყენება:
■მაღალი სისუფთავის SiC ფხვნილის და სხვა მყარი ფაზის სინთეზური კარბიდის მასალების სინთეზი
■გაზარდეთ ბრილიანტები
■ახალი თბოგამტარობის მასალები ელექტრონული პროდუქტებისთვის
■მაღალი დონის ლითიუმის ბატარეის კათოდური მასალა
■ძვირფასი ლითონის ნაერთები ასევე ნედლეულია
-
სილიკონის კარბიდით დაფარული ეპიტაქსიალური რეაქტორის ლულა
-
მაღალი ტემპერატურისა და კოროზიის მდგრადი LED Si...
-
ლულის რეაქტორი თხევადი ფაზის ეპიტაქსიისთვის
-
ანტიოქსიდანტური მაღალი სისუფთავის SiC დაფარული MOCVD უჯრა
-
ნახევარგამტარული სილიკონის საფუძველზე GaN ეპიტაქსია
-
Semi-ceras Barrel Reactor: Empowering Semicondu...