CVD TaC საფარი

CVD TaC საფარის შესავალი:

CVD TaC Coating არის ტექნოლოგია, რომელიც იყენებს ქიმიურ ორთქლის დეპონირებას ტანტალის კარბიდის (TaC) საფარის დასაფენად სუბსტრატის ზედაპირზე. ტანტალის კარბიდი არის მაღალი ხარისხის კერამიკული მასალა შესანიშნავი მექანიკური და ქიმიური თვისებებით. CVD პროცესი წარმოქმნის ერთგვაროვან TaC ფილმს სუბსტრატის ზედაპირზე გაზის რეაქციის გზით.

ძირითადი მახასიათებლები:

შესანიშნავი სიმტკიცე და აცვიათ წინააღმდეგობა: ტანტალის კარბიდს აქვს უკიდურესად მაღალი სიმტკიცე და CVD TaC საფარს შეუძლია მნიშვნელოვნად გააუმჯობესოს სუბსტრატის აცვიათ წინააღმდეგობა. ეს საფარს იდეალურს ხდის მაღალ ცვეთა გარემოში გამოსაყენებლად, როგორიცაა საჭრელი ხელსაწყოები და ფორმები.

მაღალი ტემპერატურის სტაბილურობა: TaC საფარები იცავს ღუმელისა და რეაქტორის კრიტიკულ კომპონენტებს 2200°C-მდე ტემპერატურაზე, რაც აჩვენებს კარგ სტაბილურობას. ის ინარჩუნებს ქიმიურ და მექანიკურ მდგრადობას ექსტრემალურ ტემპერატურულ პირობებში, რაც შესაფერისს ხდის მაღალტემპერატურულ დამუშავებას და მაღალტემპერატურულ გარემოში გამოყენებისთვის.

შესანიშნავი ქიმიური სტაბილურობა: ტანტალის კარბიდს აქვს ძლიერი კოროზიის წინააღმდეგობა მჟავებისა და ტუტეების უმეტესობის მიმართ და CVD TaC საფარს შეუძლია ეფექტურად თავიდან აიცილოს სუბსტრატის დაზიანება კოროზიულ გარემოში.

მაღალი დნობის წერტილიტანტალის კარბიდს აქვს მაღალი დნობის წერტილი (დაახლოებით 3880°C), რაც საშუალებას აძლევს CVD TaC საფარის გამოყენებას ექსტრემალურ მაღალი ტემპერატურის პირობებში დნობისა და დეგრადაციის გარეშე.

შესანიშნავი თბოგამტარობა: TaC საფარს აქვს მაღალი თბოგამტარობა, რაც ხელს უწყობს სითბოს ეფექტურად გაფანტვას მაღალტემპერატურულ პროცესებში და ხელს უშლის ადგილობრივ გადახურებას.

პოტენციური აპლიკაციები:

• გალიუმის ნიტრიდი (GaN) და სილიკონის კარბიდი ეპიტაქსიალური CVD რეაქტორის კომპონენტები, მათ შორის ვაფლის მატარებლები, სატელიტური თეფშები, საშხაპეები, ჭერი და მგრძნობელობები

• სილიციუმის კარბიდი, გალიუმის ნიტრიდი და ალუმინის ნიტრიდი (AlN) კრისტალური ზრდის კომპონენტები, მათ შორის ჭურჭელი, თესლის დამჭერები, სახელმძღვანელო რგოლები და ფილტრები

• სამრეწველო კომპონენტები, მათ შორის წინააღმდეგობის გამათბობელი ელემენტები, საინექციო საქშენები, ნიღბის რგოლები და ბრაჟინგი

აპლიკაციის მახასიათებლები:

• ტემპერატურა სტაბილურია 2000°C-ზე ზემოთ, რაც იძლევა ექსტრემალურ ტემპერატურაზე მუშაობის საშუალებას
•მდგრადია წყალბადის (Hz), ამიაკის (NH3), მონოსილანის (SiH4) და სილიციუმის (Si) მიმართ, რომელიც უზრუნველყოფს დაცვას მკაცრ ქიმიურ გარემოში
• მისი თერმული დარტყმის წინააღმდეგობა უზრუნველყოფს უფრო სწრაფ საოპერაციო ციკლებს
• გრაფიტს აქვს ძლიერი ადჰეზია, რაც უზრუნველყოფს ხანგრძლივ მომსახურებას და არ არის საფარის დაშლა.
• ულტრა მაღალი სისუფთავე არასაჭირო მინარევების ან დამაბინძურებლების აღმოსაფხვრელად
• კონფორმული საფარის დაფარვა მჭიდრო განზომილების ტოლერანტობამდე

ტექნიკური მახასიათებლები:

მკვრივი ტანტალის კარბიდის საფარების მომზადება CVD-ით: