ჩვენი კომპანია გთავაზობთSiC საფარიდამუშავება გრაფიტის, კერამიკის და სხვა მასალების ზედაპირზე CVD მეთოდით, ისე, რომ ნახშირბადის და სილიციუმის შემცველმა სპეციალურ გაზებს შეუძლიათ რეაგირება მოახდინონ მაღალ ტემპერატურაზე მაღალი სისუფთავის Sic მოლეკულების მისაღებად, რომლებიც შეიძლება დაილექოს დაფარული მასალების ზედაპირზე და წარმოქმნასSiC დამცავი ფენაეპიტაქსიისთვის ლულის ტიპის hy pnotic.
ძირითადი მახასიათებლები:
1 .მაღალი სისუფთავის SiC დაფარული გრაფიტი
2. უმაღლესი სითბოს წინააღმდეგობა და თერმული ერთგვაროვნება
3. ჯარიმაSiC კრისტალურად დაფარულიგლუვი ზედაპირისთვის
4. მაღალი გამძლეობა ქიმიური წმენდის წინააღმდეგ
ძირითადი სპეციფიკაციებიCVD-SIC საფარი
| SiC-CVD თვისებები | ||
| კრისტალური სტრუქტურა | FCC β ფაზა | |
| სიმჭიდროვე | გ/სმ ³ | 3.21 |
| სიხისტე | ვიკერსის სიმტკიცე | 2500 |
| მარცვლეულის ზომა | მმ | 2 ~ 10 |
| ქიმიური სისუფთავე | % | 99.99995 |
| სითბოს სიმძლავრე | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| სუბლიმაციის ტემპერატურა | ℃ | 2700 |
| ფელექსორული სიძლიერე | MPa (RT 4-პუნქტი) | 415 |
| იანგის მოდული | Gpa (4pt მოსახვევი, 1300℃) | 430 |
| თერმული გაფართოება (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| თბოგამტარობა | (W/mK) | 300 |
-
SiC საფარი სილიკონის ეპიტაქსიალური დეპონირება ბარში...
-
მაღალი ტემპერატურის SiC დაფარული ეპიტაქსიალური რეაქტორი B...
-
SiC დაფარული გრაფიტის ბაზის მგრძნობელობა MOCVD-სთვის
-
გამძლე სილიკონის კარბიდით დაფარული ლულის რეაქტორი
-
SiC დაფარული ლულის სუსცეპტორი
-
უზრუნველყოს მოწინავე LMJ microjet ტექნოლოგიის ლაზერი ...