მთავარი
Ჩვენს შესახებ
კომპანიის შესავალი
კვალიფიკაცია და ღირსება
განაცხადის ველი
CVD საფარი
სილიკონის კარბიდი (SiC) კერამიკა
ვაფლი
ალუმინა (Al203) კერამიკა
სილიკონის ნიტრიდი (Si3N4) კერამიკა
SiC შეკრული Si3N4 კერამიკა
ცირკონია (Zro2) კერამიკა
მაღალი სიზუსტის კვარცი
ვაფლი
სხვა ნახევარგამტარული მასალა
პრეს ცენტრი
კომპანიის სიახლეები
ინდუსტრიის სიახლეები
FAQ
Დაგვიკავშირდით
გამორჩეული
English
მთავარი
CVD საფარი
მონოკრისტალური ზრდის ნაწილები
მონოკრისტალური ზრდის ნაწილები
სილიკონის კარბიდის კონსოლი
ფოროვანი ტანტალის კარბიდი, ცხელი ველის მასალა SiC კრისტალების ზრდისთვის
ტანტალის კარბიდის (TaC) საფარი მაღალი სისუფთავით, მაღალი ტემპერატურის სტაბილურობით და მაღალი ქიმიური წინააღმდეგობით
მაღალი სისუფთავის ტანტალის კარბიდის პროდუქტის პერსონალიზაცია
მაღალი ხარისხის ტანტალის კარბიდის (TaC) საფარი
English
French
German
Portuguese
Spanish
Russian
Japanese
Korean
Arabic
Irish
Greek
Turkish
Italian
Danish
Romanian
Indonesian
Czech
Afrikaans
Swedish
Polish
Basque
Catalan
Esperanto
Hindi
Lao
Albanian
Amharic
Armenian
Azerbaijani
Belarusian
Bengali
Bosnian
Bulgarian
Cebuano
Chichewa
Corsican
Croatian
Dutch
Estonian
Filipino
Finnish
Frisian
Galician
Georgian
Gujarati
Haitian
Hausa
Hawaiian
Hebrew
Hmong
Hungarian
Icelandic
Igbo
Javanese
Kannada
Kazakh
Khmer
Kurdish
Kyrgyz
Latin
Latvian
Lithuanian
Luxembou..
Macedonian
Malagasy
Malay
Malayalam
Maltese
Maori
Marathi
Mongolian
Burmese
Nepali
Norwegian
Pashto
Persian
Punjabi
Serbian
Sesotho
Sinhala
Slovak
Slovenian
Somali
Samoan
Scots Gaelic
Shona
Sindhi
Sundanese
Swahili
Tajik
Tamil
Telugu
Thai
Ukrainian
Urdu
Uzbek
Vietnamese
Welsh
Xhosa
Yiddish
Yoruba
Zulu
Kinyarwanda
Tatar
Oriya
Turkmen
Uyghur
