ჭურჭელი სილიკონის ერთკრისტალის გამოსაყვანად

მოკლე აღწერა:

ჭურჭელი Semicera-დან სილიკონის ერთკრისტალების გამოსაყვანად არის სპეციალიზებული კონტეინერი, რომელიც შექმნილია ზრდის პროცესში სილიკონის მასალების შესანახად და დნობისთვის. ეს აუცილებელი კომპონენტი უზრუნველყოფს კონტროლირებად გარემოს, ინარჩუნებს სილიკონის სისუფთავეს და სტაბილურობას და ხელს უწყობს მაღალი ხარისხის ერთკრისტალების ზრდას. Semicera-ს ჭურჭელი არის გასაღები სილიციუმის კრისტალების წარმოებაში ოპტიმალური მუშაობის მისაღწევად.


პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

სილიკონის ერთკრისტალური ჭურჭელი ფოტოელექტრული ინდუსტრიისთვის არის ძირითადი კომპონენტები, რომლებიც მხარს უჭერენ მზის უჯრედების წარმოებას. ისინი ხელს უწყობენ ეფექტური სილიკონის ერთკრისტალური ზრდის მიღწევას სუფთა და სტაბილური დნობის აუზის გარემოს უზრუნველსაყოფად, რითაც აუმჯობესებენ მზის უჯრედების მუშაობას და ხარისხს. ასეთი ჭურჭელი ფართოდ გამოიყენება ფოტოელექტრული ინდუსტრიაში და უწყვეტი კვლევა და განვითარება და ინოვაციები ხელს უწყობს ჭურჭლის მუშაობის და ადაპტაციის გაუმჯობესებას.

შესავალი:

1. მასალების შერჩევა: ვინაიდან ფოტოელექტრო ინდუსტრიას აქვს ძალიან მაღალი მოთხოვნები სილიციუმის ერთკრისტალების სისუფთავეზე, სილიკონის ერთკრისტალების ამოსაყვან ჭურჭელში, როგორც წესი, გამოიყენება მაღალი სისუფთავის გრაფიტის მასალები. ამ გრაფიტის ჭურჭელებს უნდა ჰქონდეთ უკიდურესად მაღალი სისუფთავე და დაბალი მინარევების შემცველობა, რათა უზრუნველყოფილ იქნეს წარმოებული სილიკონის ერთკრისტალების დაბალი მინარევების კონცენტრაცია, რითაც გაუმჯობესდება მზის უჯრედების ეფექტურობა.

2. სისუფთავის კონტროლი: ჭურჭლის სისუფთავე სილიკონის ერთკრისტალების გამოსაყვანად ფოტოელექტრული ინდუსტრიაში საჭიროებს მკაცრად კონტროლს წარმოების პროცესში. მწარმოებლები ჩვეულებრივ იყენებენ სხვადასხვა მეთოდს, როგორიცაა მაღალი ტემპერატურის გრაფიტის თერმული დამუშავება, ქიმიური გაწმენდა და სპეციალური საფარები, რათა უზრუნველყონ ჭურჭლის შიგნით სისუფთავე და შეამცირონ მინარევების არსებობა.

3. მდნარი აუზის ფორმის კონტროლი: სილიკონის ერთკრისტალების ამოსაყვან ჭურჭელს ფოტოელექტრული ინდუსტრიაში უნდა ჰქონდეს კარგი კონტროლი დნობის აუზის ფორმაზე. ეს არის იმის უზრუნველსაყოფად, რომ სილიკონის მასალას შეუძლია შეინარჩუნოს სტაბილური ფორმა დნობისა და ზრდის პროცესში, რათა მივიღოთ მაღალი ხარისხის სილიკონის ერთკრისტალები. დნობის აუზის ფორმის საჭირო კონტროლის მისაღწევად შეიძლება მიღებულ იქნეს სპეციალური ჭურჭლის დიზაინი და ქვედა ფორმები.

4. ტემპერატურის ერთგვაროვნება: ჭურჭელს სილიციუმის ერთკრისტალების გასაყვანად ფოტოელექტრული ინდუსტრიაში უნდა ჰქონდეს კარგი თერმული კონდუქტომეტრი, რათა უზრუნველყოს ტემპერატურის ერთგვაროვანი განაწილება ჭურჭლის შიგნით. ეს ხელს უწყობს სილიციუმის ერთკრისტალების ერთგვაროვნების გაუმჯობესებას და ამცირებს მინარევებისა და დეფექტების წარმოქმნას.

5. კოროზიის წინააღმდეგობა და სითბოს წინააღმდეგობა: სილიკონის ერთკრისტალურ ჭურჭელს, რომელიც გამოიყენება ფოტოელექტრული ინდუსტრიაში, უნდა ჰქონდეს კარგი კოროზიის წინააღმდეგობა და სითბოს წინააღმდეგობა, რათა გაუძლოს ქიმიურ რეაქციებს, რომლებიც შეიძლება მოხდეს სილიკონის მასალებთან შეხებისას მაღალ ტემპერატურაზე. ეს ხელს უწყობს ჭურჭლის სტაბილურობისა და გრძელვადიანი საიმედოობის შენარჩუნებას.

ერთკრისტალური გამწევი მოწყობილობა (3)
ერთკრისტალური გამწევი მოწყობილობა (2)
ერთკრისტალური გამწევი მოწყობილობა (1)
74dc1d0c
Semicera სამუშაო ადგილი
Semicera სამუშაო ადგილი 2
აღჭურვილობის მანქანა
CNN დამუშავება, ქიმიური წმენდა, CVD საფარი
Semicera საწყობი
ჩვენი სერვისი
ერთკრისტალური გამწევი მოწყობილობა (3)
ერთკრისტალური გამწევი მოწყობილობა (3)
Semicera სამუშაო ადგილი
Semicera სამუშაო ადგილი 2
აღჭურვილობის მანქანა
CNN დამუშავება, ქიმიური წმენდა, CVD საფარი
Semicera საწყობი
ჩვენი სერვისი
ერთკრისტალური გამწევი მოწყობილობა (3)
ერთკრისტალური გამწევი მოწყობილობა (3)
Semicera სამუშაო ადგილი
Semicera სამუშაო ადგილი 2
აღჭურვილობის მანქანა
CNN დამუშავება, ქიმიური წმენდა, CVD საფარი
Semicera საწყობი
ჩვენი სერვისი
ერთკრისტალური გამწევი მოწყობილობა (3)
ერთკრისტალური გამწევი მოწყობილობა (3)
Semicera სამუშაო ადგილი
Semicera სამუშაო ადგილი 2
აღჭურვილობის მანქანა
CNN დამუშავება, ქიმიური წმენდა, CVD საფარი
Semicera საწყობი
ჩვენი სერვისი

  • წინა:
  • შემდეგი: